上海光源软X射线干涉光刻（XIL）分支线站是上海光源现阶段唯一致力于微纳加工技术研发及应用的线站。X射线干涉光刻是利用两束或多束相干X光束的干涉条纹对光刻胶进行曝光的新型先进微、纳加工技术，可以开展几十甚至十几个纳米周期的纳米结构加工。与其他光刻等方法相比，XIL技术具有高密度、大的曝光面积、曝光时间短等优点，可以更可靠地获得大面积、高质量的亚50nm的高密度周期性纳米结构。其用户群体集中在 EUV光刻技术研发，纳米光学，纳光电子器件，X射线探测器，纳米磁学及生物自组装等相关领域。
